真空镀膜

1.通过真空镀膜获得的金属膜层非常薄（通常为0.01?0.1um），可以严格啤酒表面的形状。

2.工作电压不是---（200v），操作方便，但设备较昂贵。

3.蒸发锅体积小，电镀件数量少，生产效率低。

4.比较适合于熔点比钨丝低的金属镀层（例如铝，银，铜，金等）。

真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法抉择着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，主要是堆积进程不一样所构成的。开始电镀时，基体材料外表主要生成一些纤细的小点，即结晶核，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。

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