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惠城五金真空镀膜厂服务介绍「在线咨询」

发布单位:东莞市泰坦金属制品有限公司  发布时间:2022-8-16












pvd镀膜工艺原理及应用有哪些?真空镀膜技术中常用的方法有蒸发镀膜(包括电弧相应的化学气相沉积(cvd)称为cvd技术。该行业俗称“ip”(离子镀)离子镀层,因为在pvd技术中,各种气体离子和金属离子参与成膜过程并发挥着重要作用,为了强调离子的作用,统称为离子镀膜。以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。



真空镀膜就是以磁场束缚而延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿,因为一般基片与真空室及阳极在同一电势。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。



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真空镀膜加工、pvd真空电镀特性

金属表面耐磨/颜色均匀一致,---光泽,在各种正常空气和阳光直射环境条件下保持---外观。颜色深韵、光亮,可减少清洗和擦亮颜色所必须的时间和成本对环境不会产生任何污染,在生产和佩戴过程中避免化学/具有生物兼容性。








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