真空镀膜
光密度法。光密度(od)定义为材料遮光能力的表征。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。
计算公式为： od=lg（入射光／透射光）或od=lg（1／透光率） 通常镀铝膜的光密度值为l～3(即光线透过率为0.10/0~10%)，数值越大镀铝层越厚。 光密度od值、方阻值对应的铝层厚度如表6-7所示。 表6-70d值、方阻值和铝层厚度对照表 光密度 od值 电阻值 ohm/square方阻值 铝层厚度 a 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600
真空镀膜机镀塑料时抽真空时间过长主要原因就是塑料产品的放气量太大或真空室有漏气现象。
(1)真空室有漏气现象：大家都知道，真空蒸发镀膜机是的基本条件是工件在真空状态下才能进行镀膜加工的，若真空室有漏气现象而没有经过检漏找出漏气位置，金属真空镀膜加工厂家，则真空镀很长时间都不能抽得上来的；
(2)即使真空室没有漏气，因为塑料产品的放气量大，金属真空镀膜加工厂，所以抽真空，---是高真空很难达到。而且由于塑料产品的放气，金属真空镀膜厂，造成真空室内镀膜气体的不纯，金属真空镀膜，有杂气的存在，造成镀膜产品的颜色发暗，发黄，发黑等。
一般镀制塑料产品的泵组都配置大功率或者大口径的分子泵或者扩散泵，大马拉小车的理论。
2.2.7热阴频溅射（三极型溅射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电产生的离子，在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。
2.2.8离子束溅射ionbeamsputtering：利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。
2.2.9辉光放电清洗glowdischargecleaning：利用辉光放电原理，使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。
2.3物理气相沉积；pvdphysicalvapordeition：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。
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