真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,真空镀膜加工厂家,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,真空镀膜加工,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。
真空镀膜的物理过程
pvd(物理气相沉积技术)的基本原理可分为三个工艺步骤:
(1)镀料的气化:即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源
(2)镀料粒子((原子、分子或离子)的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞,产生多种反应。
(3)镀料粒子在基片表面的沉积
当光线进入不同传递物质时(如由空气进入玻璃),塑胶真空镀膜加工厂,大约有5% 会被反射掉,在光学中有许多透镜和折射镜,整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层---镁的增透膜,单层增透膜可使反射减少至 1.5%,真空镀膜加工厂,多层增透膜则可让反射降低至 0.25%,所以整个如果加以适当镀膜,光线透穿率可达 95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色,镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色 。
pvd真空镀膜过程的均匀性
pvd真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的pvd真空镀膜,影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
pvd镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多,发生故障的影响因素会很多。如pvd镀膜前处理不净、清洗---、电解液成分失调及杂质污染、生产环境---等。pvd镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。
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