真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年， 开始研究接触角与表面能的关系(young)。1817年，金属真空镀膜厂家， 透镜上形成减反射膜(fraunhofer)。1839年， 开始研究电弧蒸发(hare)。开始研究真空溅射镀膜(grove；pulker)。1857年， 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(faraday；conn)。 1874年， ---制成等离子体聚合物(dewilde；thenard)。1877年，薄膜的真空溅射沉积研究成功(wright)。1880年， 碳氢化合物气相热解(sawyer；mann)。1887年， 薄膜的真空蒸发(坩埚) (nahrwold；pohl；pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功---钨的氢还原法(cvd)； 膜厚的光学干涉测量法(wiener)。
真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有---的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
真空镀膜中用到的离子源种类较多。主要有:高频离子源，弧放电离子源，kaufman离子源，射频离子源，霍尔离子源，冷阴极离子源，电子回旋离子源，阳极层离子源，感应耦合离子源可能还有很多其它类型离子源未被提到。
真空镀膜的特点是什么？
1.真空镀膜可以在固态基体上镀制金属，金属真空镀膜，合金，金属真空镀膜厂，半导体薄膜及各种化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范围内调控。
2.真空镀膜可以镀制高纯度，金属真空镀膜加工，高致密度，与基体结合力强的各种功能薄膜拜。---是各种金属五金产品，---集成电路，小分子有机显示器件等很多器件所需的主体薄膜只能在真空条件下制备，其他制模技术无法满足要求。
3.真空镀膜对环境无污染，---是pvd方法。
4.真空镀膜是需要有真空设备来完成的镀膜，所以成本比较高，但真空镀膜产品耐磨性好，耐腐蚀，，产品可过rohs测试。
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