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真空电镀原理说明：

真空电镀的镀膜方式分为真空蒸镀(pvd)与真空溅镀(sputter)二种：

(1) 真空蒸镀(pvd)

此乃早期之真空电镀模式，其原理乃利用钨丝来当电极，当钨丝被通以电流加热至铝金属之熔点（700至 800℃）时，铝合金电镀价格，此时置放在钨丝上之铝金属即被蒸发为铝原子团，精密铝合金电镀，此时铝原子团再一层一层表面之被镀物，故此制程亦被称为pvd，物理气相沉积。

塑胶电镀的特点是本身不导电，需要---行导电处理，即进行活化和化学镀，使表面牢固地附着一层金属膜。再后面就和五金电镀没有什么区别。

常见的电镀工艺有镀锌、镀铜、镀镍、镀金、镀银、镀锡、镀铬、镀铑、镀钯以及合金电镀。电镀的种类也是五花八门，可以是单层电镀，也可以是多层电镀：单金属电镀（如上述）、合金电镀、复合电镀、化学镀。真空镀膜、离子溅射很多人也称之为电镀。像铝氧化、发黑/发蓝、化学抛光、电化学抛光、钝化等，也归为电镀范畴。