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在真空条件下加热工件，主要依赖辐射。由于辐射传热与温度的4次方成比例，所以在850℃以下辐射效果不高，工件加热速度很慢；其次，pvd真空镀膜价格，因为金属材料中的某些合金元素在低压条件下加热时有蒸发损失现象，pvd真空镀膜，会造成表面合金元素的贫乏，以致影响其淬火后的表面层性能。对流加热技术是指先将真空镀膜设备真空炉炉膛抽到一定真空度，pvd真空镀膜厂家，然后通以0．1—0．2mpa的惰性（ar、he）、中性（n2）或还原性（h2）气体，并在充分搅动条件下施行加热，与在单纯真空条件下比较，加热速度至少可提高一倍以上。

什么是真空镀膜工艺

一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。

真空镀膜

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。