真空镀膜加工-真空镀膜-泰坦金属

什么是真空镀膜工艺

一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。

真空镀膜

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜加工技术的一般术语及工艺

2.1.8激光束蒸发：通过激光束加热蒸发材料的蒸发。

   2.1.9间接加热的蒸发：在加热装置(例如小舟形蒸发器，坩埚，灯丝，加热板，加热棒，螺旋线圈等)中使蒸发材料获得蒸发所须的热量并通过热传导或热辐射方式传递给蒸发材料的蒸发。

   2.1.10闪蒸：将很少量的蒸发材料间断地做瞬时的蒸发。

   2.2真空溅射：在真空中，惰性气体离子从靶表面上轰击出原子（分子）或原子团的过程。

   2.2.1反应性真空溅射：通过与气体的反应获得理想化学成分的膜层材料的真空溅射。