




真空镀膜主要方法:溅射镀膜。溅射镀膜是真空条件下,在阴极接上2000v高压电,激发辉光放电,带正电的离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。真空溅射薄膜的特点:可制备与靶材不同的新的物质膜。如果溅射时通入反应性气体,使其与靶材发生化学反应,这样就可以得到与靶材完全不同的新物质膜。

因此真空镀膜技术被誉为发展前途的重要技术之一,金属真空镀膜加工厂家,并已在高技术产业化的发展中展现出---的市场前景。真空镀膜是真空气相沉积的简称,是在真空条件下,惠阳金属真空镀膜,将金属或非金属作为源材料转化成原子、离子或等离子体(气相),并在工件表面沉积具有某种特殊功能薄膜的技术。金属真空镀膜
真空镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法,在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
由于底漆位于基材和镀膜的中间,其性能应当满足基材和真空镀层两方面的要求,具体包括以下几个方面:
(1)与塑料基材、真空镀层均有较好的粘附性,金属真空镀膜厂家,这是作为真空镀膜底漆应具备的z基本性能;
(2)应具有---的流平性,这是决定真空镀层是否具有高光泽和镜面效果的关键;
(3)不应含有挥发性小分子,主要是指残留单体、挥发性添加剂、挥发性杂质和高沸点溶剂等,其在真空升温环境下会逐渐逸出,从多方面破坏镀膜和性能;
(4)应具有一定的耐热性,其热膨胀性要和真空镀层的热胀冷缩性能相适应,抗热形变和热分解性能应满足真空镀膜工艺的要求;
(5)对于柔性基材,底涂应具有足够的柔韧性,否则易造成镀层连带开裂,甚至崩脱。
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