某些真空镀膜工艺无需面漆，如镀膜材料为铬、不锈钢时，其镀层耐腐蚀性好、硬度高且耐划伤性强，因此对制品性能要求不高时，可不必涂装面漆。真空pvd镀膜
真空镀膜过程简单来说就是电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，电离出大量的离子和电子，电子飞向基片。离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，真空pvd镀膜厂家，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。
pvd镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—pvd镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，真空pvd镀膜，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色；镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色进行测量，使颜色得以量化，真空pvd镀膜厂，以确定镀出的颜色是否满足要求。真空pvd镀膜
pvd镀膜与传统化学电镀（水电镀）的异同pvd镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。两者的不同点是：pvd镀膜膜层与工件表面的结合力，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性---，膜层的性能也更稳定；pvd镀膜不会产生有毒或有污染的物质。
真空镀膜主要方法：离子镀膜。在真空条件下，真空pvd镀膜加工，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，十分清洁。这些离子在电场作用下被加速而射向接入负电位的基体后，即可生成薄膜。真空离子镀膜的特点：镀膜所适用的基体材料与膜材均比较广泛。
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