表面处理工艺——真空电镀：物理气相沉积（pvd），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。适用材料：几乎所有金属、合金、及陶瓷材料。自然材料会影响真空环境，金属真空电镀价格，不适合真空电镀。
常规铝及铝合金电镀的工艺流程
铝及铝合金电镀工艺流程有镀前处理、电镀、镀后处理3部分组成。镀前处理是关系到电镀产品优劣的关键工序，中堂金属真空电镀，其主要目的是除去铝及铝合金表面的油脂，金属真空电镀加工，自然形成氧化膜及其他污物。
常规的一般工艺流程为：脱脂-水洗-减蚀-水洗-酸洗-水洗-活化-水洗-一次浸锌-水洗-退锌-水洗-二次浸锌-水洗-中性镀镍-水洗-后续电镀。
金属真空电镀
金属真空电镀厂哪些材质在目前条件下还不能实现真空电镀：锌合金、铁合金、铜合金、铝合金等合金材质的产品，因为其材质的不致密、细小气孔比较多，基材容易被侵蚀，外表杂质也比较难以清洗洁净，所以不可以直接用来真空电镀，需要先镀铬和镍底层，再就行真空电镀；铜真空电镀前需要先化学镀pnp等底层以后，再进行真空电镀。
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